EUV 光刻機是半導體制造中的核心設備，只有 ASML 公司才能生產(chǎn)，單臺售價(jià)約 10 億人民幣，之前三星、臺積電等公司還要搶著(zhù)買(mǎi)，然而今年半導體形勢已經(jīng)變了，EUV 光刻機反而因為耗電太多，臺積電計劃關(guān)閉省電。

　　來(lái)自產(chǎn)業(yè)鏈的消息人士手機晶片達人的消息稱(chēng)，由于先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率開(kāi)始下滑，而且評估之后下滑時(shí)間會(huì )持續一段周期，臺積電計劃從年底開(kāi)始，將部分 EUV 設備關(guān)機，以節省 EUV 設備巨大的耗電支出。

　　據了解臺積電目前擁有大約 80 臺 EUV 光刻機，主要用于 7nm、5nm 及以下的先進(jìn)工藝，今年 9 月份還會(huì )量產(chǎn) 3nm 工藝，都需要 EUV 光刻機，然而隨著(zhù) PC、手機、顯卡等產(chǎn)品的需求下滑，先進(jìn)工藝生產(chǎn)的芯片勢必會(huì )受到影響。

　　蘋(píng)果今年的 iPhone 14 Pro 系列的 A16 處理器也沒(méi)有急著(zhù)上 3nm 工藝，還在用 4nm 工藝，此外蘋(píng)果還因為 3nm 能效問(wèn)題，取消了初代 3nm 生產(chǎn)芯片的計劃。

　　相比之前的 DUV 光刻機，EUV 光刻機需要使用高能激光器，而且光線(xiàn)會(huì )多次折射導致?lián)p耗極大，早期效率只有 0.02%，現在量產(chǎn)的說(shuō)是可以達到2% 效率，但也意味著(zhù)絕大多數電力都要消耗掉。

　　EUV 光刻機生產(chǎn)一天需要 3 萬(wàn)度電左右，一年耗電大約 1000 萬(wàn)度，是十足的電老虎。
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